現行の半導体製造技術による微細化が、行き詰まりつつある。行き詰まりそのものは半導体製造のコミュニティでは、10年以上も前からの共通認識だ。その大きな理由は、半導体集積回路の微細な回路パターンを形成するリソグラフィ技術(露光技術)が基本的には変化していないことによる。