【福田昭のセミコン業界最前線】 次世代半導体「酸化ガリウム」開発の旗手「FLOSFIA」を訪ねる

 半導体材料「酸化ガリウム(Ga2O3)」が、次世代パワーデバイスの有力候補として急速に注目を集めている(「酸化ガリウム」からはじまる日本の半導体産業“大復活”参照)。シリコン(Si)のパワーデバイスはもちろんのこと、新世代のパワーデバイス用半導体である炭化シリコン(SiC)と窒化ガリウム(GaN)を超える性能を理論的には…