【福田昭のセミコン業界最前線】 高密度の埋め込みフラッシュ技術をSamsungとGFがIMW 2021で発表

 半導体メモリ技術の研究開発に関する国際学会「国際メモリワークショップ(2021 IEEE 13th International Memory Workshop(IMW 2021))」が、前回(昨年5月に開催)に続き、バーチャルカンファレンスとして2021年5月16日~19日に開催された。最終日である5月19日には、恒例の閉会挨拶(クロージング・リマーク)が実施された。