半導体のイオン注入とは?原理と装置構成 | Semiジャーナル

イオン注入とは?イオン注入は「不純物をイオン化し、高電圧で加速することでウェーハに注入する方法」です。デバイスの作成にはp型・n型領域を詳細に作り分ける必要があるため、不純物の精密な導入が非常に重要です。不純物導入法はイオン注入の他に、熱拡散法があります。イオン注入不純物原子をイオン化し、高電圧で加…