高稼働率かつ高スループットで高い生産性を実現したCMP装置。F-REX型は、ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置です。市場で証明された高い信頼性と優れたプロセス性能を有し、要求仕様に応じた多様かつ柔軟な装置構成が可能です。プロセスチャンバー間の相互コンタミがないデュアルモジュー…